进入了六月以后，成永兴的陪聊业务，愈发的繁忙。

    由于条件的限制，再加上距离的遥远，他不得不通过电话，一点一滴的跟踪远方的进展。

    经历了mems的洗礼，成永兴对于半导体设备的使用，并不陌生了。

    但是他现在又来到了一个全新的挑战面前。

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    1989年到1990年这个节点，对于一名程序员来说，差不多是最差的年代。

    pocvd，除了名字相同，原理相同以外，两者之间，再没有什么是相同的。

    这个改造，是所有事情的。

    如果不是中村这个怪胎，也许蓝光led的出现，还要再等待三十年！

    这件事情的难度，我们可以做个比喻。

    有位学习集成电路设计的老兄，不满意现有光刻机的精度，或者易用性，于是自己动手设计和制造了一种新类型的光刻机!

    这种光刻机不但能用！而且好用，各种技术指标，全面爆棚！

    又或者是一名医生，不满意现在的ct扫描仪，自己动手做出了核磁扫描仪！

    通过这两个例子，大家就能理解，中村的成就是多么的离谱。

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    术业有专攻。

    随着工业和科学技术的发展，学科的种类也是越分越细。这种细分的结果，使人的知识面反而越来越窄，每个人都成为了大机器上的一个螺丝钉。

    人一旦离开了现代社会这个大机器，被饿死在野外，是大概率事件。

    被现代化教育体系培养出来的精英，仪器的使用者和仪器的制造者，是两种完全不同领域的人。

    正是这种跨专业，跨领域，仪器制造厂对使用者的需求和困扰，并不是那么敏感和理解。这也是vpe，甚至mocvd早就诞生，但只有到了今天，才被中村改造。

    光刻机的厂家，肯定很烦芯片设计人员跑过来指手画脚，告诉他们如何设计仪器。

    在科仪，如果不是他们走投无路，会甘心情愿的听成永兴瞎指挥？

    把石英改成金属？你那不是疯了吧！

    这一关，中村靠的是天赋，成永兴靠的是外挂和金手指。

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    过了第一关，就是第二关。

    这个第二关，也跟设备结构有关系。

    这就是被后世沿用三十年之久的“two-flow“双吹法进气模式。

    gan材料的生长温度比传统半导体要高很多，一般在1000度以上。

    在高温下，衬底表面的气体会自发向上扩散，造成外延表面的氮分压不够，gan容易分解。

    中村发明了一种双束流反应室结构，即一路为水平气流携带化学反应的前驱物进入反应室，另外一路为垂直的气流从反应室自上而下进入。

    说穿了，就是两股气流，一个是侧吹，一个是从上往下吹。这股自上而下的气流，起到了压制gan分解的作用。

    这个工艺方法的出现，完全是中村拍脑袋的结果，没有任何解释。

    中村没有走任何弯路，一步到位，直接就是正确的方式。

    这种运气和巧合，令全世界的科研工作者，都很无语！

    因为，再没有第二个开发人员，采用这种方式！

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    从已经披露出来的信息来看，成永兴甚至高度怀疑，这个中村其实也是个穿越者！

    他的一些操作手法，技巧，甚至人生选择，都出现得毫无道理。

    中村身为名校的研究生，居然放弃大城市，大公司的工作，跑到一家乡镇企业打工，不就

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